什么是X光小角散射法

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2015-04-13

来源:中国粉体网

中国粉体网讯  当X光穿过存在微观不均匀区(如超微颗粒、微孔、杂质、位错、空穴等散射体)的介质时,将发生散射现象,由于散射体大小比X光波长大的多,散射的角域很小(±2°左右),故称X光小角散射。

    对单个球状颗粒,散射强度

    I=I0m2Φ2(KR)
其中

    m:颗粒中的电子数与同体积的周围介质中的电子数之差,可写为m=ρeV(R),ρe为颗粒与其周围介质的电子密度差

    Φ(KR):球状颗粒的散射函数Φ(KR)=(sinKR-KRcosKR),K=4πsinθ/λ,λ为入射X光波长,sinθ≌,ε是散射角

    因此,散射强度可写成I=I0V(R)R3Φ2(KR)。

对多分散颗粒系统,设粒度分布函数为W(R),则有

I(Kj)=   i=1,2,….n

    式中,系数aji=C,C是常数,从而由实验检测得到的不同散射角的散射强度,由该式即可计算出粒度分布。

    X光小角散射仪已有进口商品仪器,其粒度测试范围为0.003μm~0.5μm。方法要注意两点:1,如同激光粒度仪一样,有复散射问题;2,由于X光散射与颗粒中电子数有关,因此,当颗粒表面氧化(如金属颗粒)或表面吸水(如氧化物等)时,电子数会变化,计算需要修正。

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