无氢硅烷常压化学气相沉积SiOx薄膜在晶体硅太阳能电池制造中的应用

351

2021-12-21

编号:CYYJ01725

篇名:无氢硅烷常压化学气相沉积SiOx薄膜在晶体硅太阳能电池制造中的应用

作者: 赵毅

关键词: 无氢硅烷 SIOX薄膜 晶体硅太阳能电池

机构: 山西兴新安全生产技术服务有限公司

摘要: 提出SiOx薄膜沉积在成本效益高的实验室规模三维打印常压化学气相沉积装置,研究了镀层的完整性、与各种表面的一致性以及处理后的回弹性,并讨论了常压化学气相沉积(APCVD)法制备的薄膜。研究表明,在不同的应用中,常压化学气相沉积法制备的薄膜在钝化发射体的正面和背面太阳能电池上起到保护寄生电镀的作用。

版权与免责声明:

① 凡本网注明"来源:中国粉体网"的所有作品,版权均属于中国粉体网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:中国粉体网"。违者本网将追究相关法律责任。

② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。

③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。

文章评论(0)
Copyright©2002-2024 Cnpowder.com.cn Corporation,All Rights Reserved