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2016-01-07
编号:CYYJ01059
篇名:光学材料的干法刻蚀研究
作者: 王军标 ;黄子轩
关键词: 光学材料 干法刻蚀 二氧化硅 工艺条件
机构: 浙江海洋学院
摘要: 本文对化学材料二氧化硅的干法刻蚀工艺进行研究,运用反应离子刻蚀设备对二氧化硅进行了刻蚀实验,通过对不同工艺条件下二氧化硅的刻蚀速率、均匀性等参数对比,最终得出了二氧化硅等同类光学材料最佳的干法刻蚀工艺条件。
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