编号：NMJS08658

篇名：磁控溅射技术制备氮化钛薄膜的研究进展

作者： 李昌恒 刘奎仁 魏世丞 韩庆 王博 王玉江

关键词： 氮化钛薄膜 磁控溅射 工艺参数 退火 性能

机构： 东北大学冶金学院 陆军装甲兵学院装备再制造技术国防科技重点实验室

摘要： 磁控溅射在氮化钛薄膜制备方面具有显著优势,工艺参数对成膜质量影响显著。概述了氮化钛薄膜的晶体结构、物理性质及磁控溅射技术的工作原理及主要分类,重点综述了溅射功率、溅射时间、基底偏压、沉积温度、溅射气压、氮分压等工艺参数对氮化钛薄膜组织结构、表面形貌、沉积速率、表面粗糙度、择优取向、电学性能、力学性能、耐磨损性能、耐腐蚀性能、析氢性能等的影响规律和作用机理。此外,还就退火时间与退火温度对薄膜组织结构及电阻率的影响,基底材料对薄膜沉积速率与表面粗糙度的影响,以及靶材选取对薄膜的制备方式与成膜过程的影响等的研究与应用现状进行了介绍,进而展望了磁控溅射技术在制备高质量氮化钛薄膜领域的发展趋势。