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2015-10-21
编号：CYYJ00945
篇名：分子印迹CS@SiO2聚合物吸附性能评价
作者： 吴振岳； 马秀玲； 黄丽梅； 曾宝珊； 陈盛；
关键词： 壳聚糖； 二氧化硅纳米粒子； 柚皮苷； 分子印迹；
机构： 福建师范大学环境科学与工程学院； 福建师范大学化学与化工学院； 福建师范大学福清分校；
摘要： 以壳聚糖为功能体,柚皮苷为印迹分子,将壳聚糖负载到二氧化硅(CS@SiO2)上,制成柚皮苷(NG)印迹CS@SiO2,用XRD、FT-IR、SEM等测试技术对该印迹聚合物进行分析表征,探讨了印迹CS@SiO2对印迹分子柚皮苷的吸附特性.实验表明,印迹聚合物的吸附特性优于非印迹聚合物.分别用Langmuir和Freundlich等温吸附模型拟合印迹CS@SiO2对NG的吸附等温线,印迹CS@SiO2对NG的吸附符合Langmuir吸附等温方程.印迹聚合物对印迹分子的印迹效率α为1.74,采用橙皮苷作竞争性吸附底物,选择因子β为2.00.
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