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2019-03-29
编号:CYYJ01809
篇名:铜箔在石墨烯制备中的应用研究进展
作者: 孙云飞 王学江 宋佶昌 杨祥魁
关键词: 铜箔 石墨烯 化学气相沉积 综述
机构: 山东金宝电子股份有限公司
摘要: 因石墨烯独特的结构和优异的性能,自发现以来一直是研究的热点。以铜箔为基底的化学气相沉积(CVD)法是目前制备石墨烯的一种重要方法。文章综述了石墨烯的主要制备方法及其存在的优缺点;对石墨烯以铜基底化学气相沉积法的生长机理、最新研究进展及在多个领域的应用前景进行了分析。
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