四方光电TDLAS+NDIR双光学方案,守护麻醉安全

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2026-09-22

在麻醉场景中,FiO2(吸入氧浓度)和EtCO2(呼气末二氧化碳)是呼吸监测的两项核心参数,FiO2确保供氧充足EtCO2判断通气充分,共同为麻醉安全筑牢防线。


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ASA明确要求

美国麻醉医师协会(ASA)2025年10月最新修订的《基本麻醉监测标准》明确要求:所有麻醉期间,需对患者的氧合状态、通气功能、循环功能及体温进行频繁评估,这就需要对吸入氧气呼气末二氧化碳进行浓度监测。

1. 使用麻醉机实施全身麻醉时,必须通过配备低氧浓度极限报警器的氧浓度分析仪,持续监测呼吸回路中的氧浓度;

2. 全身麻醉需持续评估通气充足性,气管导管置入后,必须用EtCO2监测来验证插管位置,并持续监测。


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为什么是FiO2和EtCO2

FiO2氧浓度的精准调控是患者安全的核心环节之一,FiO2不足可能导致低氧血症,过高则会引发吸收性肺不张、肺损伤。而患者的氧合需求因体位、手术类型、基础疾病等不同不断变化,因此,FiO2必须动态精准调控。

EtCO2作为除血压、脉搏、血氧、体温、呼吸之外的"第六大生命体征",EtCO2在麻醉场景应用最为普遍。

  • 判断气管位置:通过EtCO2波形判断气管插管位置;

  • 通气管理:全麻期间机械通气取代自主呼吸,PETCO2可间接反映PaCO2,指导调整呼吸参数(如潮气量和呼吸频率);

  • 通气不足预警:对于非插管全麻患者,患者保留自主呼吸,EtCO2监测能在SpO2下降前更早发现通气不足与呼吸抑制;

  • 循环状态的辅助指标:在通气参数恒定时,EtCO2与心输出量、肺血流量高度相关,心输出量减少时EtCO2随之降低;

  • 辅助诊断:辅助诊断多种疾病,如严重过敏反应、肺动脉灌注障碍等。

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麻醉回路里“内外夹击”

然而,麻醉回路中FiO2与 EtCO2的监测,既受外部环境干扰,也受传感器自身性能制约。

外部挑战

  • 交叉气体干扰:回路中N2O等挥发性卤代麻醉剂,易干扰测量;

  • 电磁环境复杂:手术室多种大功率设备密集运行,干扰传感器信号采集与处理的稳定性。

内部挑战

  • 传统电化学氧气传感器寿命短,随着时间推移,灵敏度下降,读数失真;

  • 传统二氧化碳传感器长期使用后探测器灵敏度下降,测量值漂移。

04
TDLAS+NDIR双光学方案

四方光电依托TDLASNDIR双技术平台,自主研发激光氧气传感器呼气末二氧化碳传感器,以光学组合方案实现麻醉场景下FiO2与EtCO2精准可靠监测。

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麻醉安全,不仅在于气体的精准监测,更在于每一台麻醉系统的可靠集成。四方光电以TDLAS+NDIR双光学方案,从传感器性能到系统适配,为麻醉系统制造商提供端到端的开发支持——接口定义、安装限制、通信协议均可定制化适配;从设计导入到全面量产,全程满足法规可追溯性标准,让技术优势落地为临床安全。


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