11
2026-01-28
来源:大连力迪

一、Thyracont品牌核心优势
德国Thyracont成立于1970年,50余年专注真空测量技术创新,以高精度、耐用性及智能化为核心竞争力。其产品融合传统工艺与现代技术,例如首创的微型Pirani螺旋丝和宽量程组合传感器,已成为行业标准。

真空表优势:
• 具有16bar的超压稳定性,无需超压阀,节约成本
• 响应速度快,精度高
• 防护等级最高可达IP54
• 法兰处耐温度,高达160摄氏度
• 输出信号:4-20mA,0- 10v, RS485, EtherCAT, Profinet满足不同的控制系统连接
Ø 磁控溅射镀膜设备以及离子镀膜设备所需的超高真空度范围,thyracont的VSM冷阴极和VSH热阴极复合真空规
l VSM 1000到5*E-9mbar(5*E-7Pa) 皮拉尼/冷阴极
1. 磁控溅射是一种物理气相沉积技术,利用磁场和电场约束电子,提高溅射效率。磁控溅射的工作过程,比如氩离子轰击靶材,溅射原子沉积到基片上形成薄膜。其中,在真空腔室(通常抽至1*E-5mbar(1*E-3Pa)量级)中通入氩气。
a) 通常会使用皮拉尼冷阴极复合规。
l VSH 1000到5*E-10mbar(5*E-8Pa) 皮拉尼/热阴极
1. 离子镀膜设备是基于物理气相沉积(PVD)技术的高精度表面处理设备,通过等离子体环境中的离子轰击实现膜层沉积,广泛应用于工具、装饰、电子、光学等领域。
2. 磁控溅射需本底真空≤5×10⁻⁶ Torr(≈6.67×10⁻⁴ Pa)以避免油蒸气污染
3. 半导体/光学镀膜(如晶圆封装、滤光片)
a) 真空度:晶圆封装需<5×10⁻⁷ mbar(≈5×10⁻⁵ Pa),光学镀膜需<1×10⁻⁶ Pa
b) 目标:纳米级膜厚精度(±1%),避免气体吸附导致的光学损耗
c) 通常会使用皮拉尼热阴极复合规
各品牌产品对比

版权与免责声明:
① 凡本网注明"来源:中国粉体网"的所有作品,版权均属于中国粉体网,未经本网授权不得转载、摘编或利用其它方式使用。已获本网授权的作品,应在授权范围内使用,并注明"来源:中国粉体网"。违者本网将追究相关法律责任。
② 本网凡注明"来源:xxx(非本网)"的作品,均转载自其它媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责,且不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。如其他媒体、网站或个人从本网下载使用,必须保留本网注明的"稿件来源",并自负版权等法律责任。
③ 如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起两周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。